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HO-TH-05 台式旋涂机

品牌型号：Holmarc HO-TH-05
HO-TH-05 台式旋涂机
邮箱：han@yeadagroup.com
电话：13810172901
产品描述：HO-TH-05 台式旋涂机
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Holmarc的旋涂机，型号：HO-TH-05是专用的台式系统，用于在旋压工艺参数得到良好控制的研究实验室中旋涂小基材。高速和持续时间范围允许用户获得所需的薄膜厚度或厚度。旋转头执行器是一种精密的直流伺服电机，需要较少的维护，并具有精确的速度和加速度控制。由无油真空泵驱动的真空吸盘将基材固定在旋转头上。

该设备具有用户友好的前面板，该面板具有用于编程旋转过程的键盘和LCD。旋转持续时间，旋转速度，加速度等都是可通过前面板进行编程的参数。由于程序存储器是非易失性的，因此在断电时不会丢失所记录的参数。该模型配备有9个预设的可编辑程序的存储器，每个程序有9个步骤。

旋涂是用于将均匀薄膜沉积到平坦基板上的最常见技术之一。它被广泛用于各种行业和技术领域。旋涂的优势在于它能够快速，轻松地生产非常均匀的薄膜，厚度范围从几纳米到几微米。

在这种技术中，少量涂料涂覆在基材的中心，基材要么以低速旋转，要么根本不旋转。然后，使基材高速旋转，以便通过离心力使涂料散布。旋转继续进行，同时流体从基板的边缘旋转，直到达到所需的薄膜厚度。所施加的溶剂通常是挥发性的，并且同时会蒸发。因此，旋转的角速度越高，薄膜越薄。膜的厚度还取决于溶液和溶剂的粘度和浓度。

特点	卡盘直径：10mm，22 mm，35 mm 工作腔上方透明的安全盖非易失性程序存储器人性化设计后面板电源开/关开关用于固定移液器的支架可分配溶液进样口和惰性气体吹扫出口，6mm油管
应用领域	旋涂在有机电子，纳米技术，半导体工业和其他工业领域无处不在。旋涂广泛用于使用溶胶-凝胶前驱体在玻璃或单晶衬底上的功能性氧化物层的微细加工，可用于制造具有纳米级厚度的均匀薄膜。它广泛用于光刻中，以沉积约1微米厚的光刻胶层。
执行器	无刷直流电机
纺丝速度	60-9999 rpm
基板直径	30毫米至70毫米
电源输入	230V，50Hz
控制	20 x 4线LCD
旋转室	尼龙
加速	5-2000 rpm /秒
转速精度	<5％
可编程参数	速度，加速度，停留时间和步数
最大步数（可编辑程序）	每个程序可设9步
程序记忆	9个程序（非易失性）
尺寸	400mm深度x 275mm宽x 500mm高
重量（约）	34公斤
可选配件	数字移液器，用于将液体分配到基质中。支架用于固定手动移液器。真空适配器，用于固定直径范围为30 mm-100 mm的培养皿机械夹或锁，用于在没有真空的情况下固定样品